化工機械設(shè)備網(wǎng)
技術(shù)文章
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- KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備 閱讀：215 發(fā)布時間：2024/1/2
- KRI 離子源用于UVC人機共存紫外濾光片鍍膜 閱讀：213 發(fā)布時間：2023/12/7
- KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜 閱讀：229 發(fā)布時間：2023/12/7
- 上海伯東適用于光學(xué)鍍膜機的離子源和真空系統(tǒng) 閱讀：273 發(fā)布時間：2023/11/1
- 美國 KRi 射頻離子源應(yīng)用于氧化物薄膜及異質(zhì)結(jié)制備系統(tǒng) 閱讀：294 發(fā)布時間：2023/11/1
- 上海伯東提供適用于薄膜太陽能電池生產(chǎn)的離子源和真空系統(tǒng) 閱讀：247 發(fā)布時間：2023/10/12
- 上海伯東提供用于光學(xué)鍍膜機的離子源和真空系統(tǒng) 閱讀：280 發(fā)布時間：2023/10/12
- 上海伯東提供適用于光學(xué)鍍膜機的離子源和真空系統(tǒng) 閱讀：161 發(fā)布時間：2023/9/18
- KRi 離子源光通信應(yīng)用, 助力 5G技術(shù)發(fā)展 閱讀：175 發(fā)布時間：2023/9/18
- KRi 射頻離子源應(yīng)用于車載攝像頭鏡片鍍膜工藝 閱讀：215 發(fā)布時間：2023/8/1
- KRi 射頻離子源應(yīng)用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝 閱讀：184 發(fā)布時間：2023/7/3
- KRi 離子源應(yīng)用于藍玻璃 AR工藝 閱讀：8238 發(fā)布時間：2023/7/3
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- 美國 HVA 真空閥門選型 閱讀：352 發(fā)布時間：2023/6/5
- KRI 射頻離子源應(yīng)用于多層膜磁控濺鍍設(shè)備 閱讀：252 發(fā)布時間：2023/4/10
- KRI 離子源應(yīng)用于金屬熱蒸鍍設(shè)備 閱讀：196 發(fā)布時間：2023/4/10
- KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用 閱讀：290 發(fā)布時間：2023/3/22
- 美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應(yīng)用 閱讀：294 發(fā)布時間：2023/3/22
- Aston™ 過程質(zhì)譜儀保護環(huán)境免受半導(dǎo)體有害氣體排放污染 閱讀：208 發(fā)布時間：2022/4/21