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ASML浸沒式光刻機(jī)XT:1900i是XT：1700Fi的自然擴(kuò)展，通過提供40nm的半間距分辨率，支持半導(dǎo)體行業(yè)所要求的設(shè)備縮小的持續(xù)驅(qū)動(dòng)器

ASMLKRF光刻機(jī)PAS5500/800提供0.80數(shù)值孔徑(NA)

ASMLKrF光刻機(jī)PAS5500/850C248nm步進(jìn)-掃描系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)110nm的批量生產(chǎn)

ASMlKrF光刻機(jī)PAS5500/850D248nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)支持110nm量產(chǎn)

PAS5500/8TFH-AKrF步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種專用的光刻工具，用于在125毫米、150毫米和200mmAlTiC晶片上生產(chǎn)薄膜頭(TFH)

TWINSCANXT:1000H248nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種新型雙級(jí)KrF光刻工具，具有業(yè)界的NA和生產(chǎn)率，設(shè)計(jì)用于200mm和300mm晶圓生產(chǎn)

ASMLTwinscanAT1250B是步進(jìn)和掃描儀系統(tǒng)

XT:1250i是ASML發(fā)布的TWINSCANXT:1250的浸入式版本

隨著TWINSCANXT：1400Ei的發(fā)布，使用ArF浸入式光刻生產(chǎn)65nm體積現(xiàn)在成為現(xiàn)實(shí)

ASMLHoldingNV(ASML)于2006年末推出了其的TWINSCAN系統(tǒng)，這是一種*的193納米(nm)曝光系統(tǒng)，具有成像、覆蓋和吞吐量改進(jìn)的特點(diǎn)

TWINSCANXT:1900GiStep-and-Scan系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級(jí)浸沒式光刻工具，專為45納米及以下分辨率的300毫米晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)

TWINSCANXT:400G365nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種超高生產(chǎn)率的雙級(jí)光刻工具，專為350nm分辨率的300mm晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)

TWINSCANXT:450G365-nm步進(jìn)式掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級(jí)光刻工具，設(shè)計(jì)用于批量生產(chǎn)分辨率低至220-nm及以上的關(guān)鍵i-line應(yīng)用

尼康的這款i-line光刻機(jī)NSR2205i12D是歡迎的光刻系統(tǒng)之一

佳能二手i-line光刻機(jī)CANONFPA3000I4參數(shù)：Magnification5XResolution0

ASML二手KrF曝光機(jī)，光刻機(jī)現(xiàn)貨由青島佳鼎分析儀器有限公司提供，除此之外，我們的技術(shù)團(tuán)隊(duì)還支隊(duì)對(duì)光刻機(jī)的技術(shù)改造和方案對(duì)接

Nikon分步投影光刻機(jī)NSR-S204B，用于集成電路生產(chǎn)過程中的微光刻工藝，通過投影成像方式，把掩模版上集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復(fù)...

TWINSCANNXT:1970Ci步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級(jí)浸沒式光刻工具，專為在成熟節(jié)點(diǎn)批量生產(chǎn)300毫米晶圓而設(shè)計(jì)

這些i-line步進(jìn)器具有與尼康DUV掃描儀相同的縮小率和視場(chǎng)大小，是曝光次臨界層的理想選擇，這些層大約占設(shè)備20層或更多層的一半