ASML KrF光刻機PAS5500/850C 248nm步進-掃描系統(tǒng)可實現(xiàn)110nm的批量生產(chǎn)。自從PAS5500/850引入以來，PAS5500/850系列已經(jīng)成為110nm邏輯和110nm內(nèi)存應(yīng)用的標準。PAS5500/850C可以配置許多選項，使在制造中實現(xiàn)超低k1，擴展PAS5500/850C的應(yīng)用遠低于110nm。

主要功能和優(yōu)點

可變0.8-NA深紫外投影透鏡

生產(chǎn)分辨率低至110 nm。

天線II照明器

在吞吐量的照明模式下提供的靈活性。

PAS 5500步進掃描車身

與i-line和193 nm Step和掃描工具的通用性，用于經(jīng)濟混合和匹配。

雅典娜高級校準與十字線藍色校準相結(jié)合

提高了各種工藝的對準精度。隨著時間的推移，性能極為穩(wěn)定。

包括20 W KrF激光技術(shù)和可變激光頻率控制

將高激光功率與高效利用激光脈沖相結(jié)合，實現(xiàn)高吞吐量

激光操作成本。

ARMS批量流式處理

提供連續(xù)流程制造

參數(shù)信息：