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SUSSMicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計了一款新型光刻平臺：MA100/150eGen2

SUSSMA12掩膜對準(zhǔn)器用于工業(yè)研究和低成本生產(chǎn)的手動光刻機(jī)

MA/BAGen4系列掩膜和鍵合對準(zhǔn)器——實驗室及小批量生產(chǎn)用小型光刻機(jī)平臺蘇斯公司的MA/BA4代系列是一代的半自動光刻和鍵合對準(zhǔn)機(jī)，并引進(jìn)了新的平臺系統(tǒng)

佳能KrF光刻機(jī)FPA-6300ESW采用248nmKRF曝光光源，分辨率130nm，專為12英寸晶圓設(shè)計

FPA-3030i5+步進(jìn)器旨在滿足并超越物聯(lián)網(wǎng)和MEMS制造商的要求

FPA-3030i5a支持直徑為200毫米或更小的較小基板

FPA-3030iWa支持直徑為200毫米或更小的較小基板

光學(xué)系統(tǒng)曝光時間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)

光學(xué)系統(tǒng)曝光時間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)

FA系列全自動正/雙面對準(zhǔn)（TSV/BSV）光刻機(jī)截止到2012年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺光刻機(jī)，50多臺單獨(dú)曝光系統(tǒng)

FA系列全自動正/雙面對準(zhǔn)（TSV/BSV）光刻機(jī)截止到2012年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺光刻機(jī)，50多臺單獨(dú)曝光系統(tǒng)

ASML二手現(xiàn)貨ArF光刻機(jī)部分信息-193nm-軌道預(yù)警信號（APR）：APR啟用-避免跟蹤輸入/輸出沖突

ASML二手翻新現(xiàn)貨ArF光刻機(jī)AT:1100采用193nmArF曝光光源，針對于300mm晶圓處理的雙級光刻平臺

ASMLArF光刻機(jī)AT:1200作為其綜合成像設(shè)施的一部分，SUNYPoly擁有一臺TWINSCANAT:1200193nm“干式"掃描儀；（0.85NA）

ASML二手翻新現(xiàn)貨KrF光刻機(jī)AT:750是248nm深紫外系統(tǒng)

ASML推出了一種用于0.35微米成像的新型i-line光刻系統(tǒng)，旨在幫助客戶從0.5微米以上的制造技術(shù)過渡到更嚴(yán)格的分辨率

ASMLPAS5500/275D是一款高吞吐量i-line步進(jìn)機(jī)

ASMLi-line光刻機(jī)PAS5500/450F是i-line步進(jìn)器系列的、的產(chǎn)品之一

ASML二手翻新現(xiàn)貨ARF光刻機(jī)AT:1100是一款步進(jìn)式ARF掃描儀，可在300mm的晶圓上進(jìn)行100nm體積的生產(chǎn)

ASMLDUV光刻機(jī)PAS5500/750FDUV步進(jìn)和掃描系統(tǒng)使用成熟的248-nmKrF技術(shù)實現(xiàn)130nm量產(chǎn)