低硬度復(fù)合二氧化硅研磨分散機(jī)，新型研磨分散機(jī)，高速研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，不銹鋼研磨分散機(jī)

產(chǎn)品特點(diǎn)：

　 低硬度復(fù)合二氧化硅是在高純二氧化硅的基礎(chǔ)上，經(jīng)過(guò)特殊工藝，熔融其它復(fù)合材料．在保證二氧化硅的基本性能的同時(shí)，適當(dāng)降低其表面硬度，具有以下特點(diǎn)：

   1、硬度低：不易磨損設(shè)備，減少混合過(guò)程中的羥基反應(yīng)。

   2、分散性好：粒度分布窄，對(duì)樹(shù)脂浸潤(rùn)性好，從氫鍵表面與樹(shù)脂結(jié)合，耐候性能 3、熱膨脹收縮率低：更能降低樹(shù)脂固化反應(yīng)的放熱峰溫度，降低固化物的熱膨脹系數(shù)和固化收縮率，從而消除內(nèi)應(yīng)力，防止開(kāi)裂。

4、補(bǔ)強(qiáng)性佳：是多種材料的熔融聚合而成，克服了單一材料的缺陷，有復(fù)合補(bǔ)強(qiáng)效果。

5、絕緣性佳：經(jīng)過(guò)高溫熔融處理，質(zhì)純、性質(zhì)穩(wěn)定，使固化物具有優(yōu)異的絕緣性能和抗電弧性能。

6、顯化學(xué)惰性的無(wú)機(jī)填料，不含結(jié)晶水，不參與固化反應(yīng)，不影響反應(yīng)機(jī)理。

物理化學(xué)指標(biāo)：

低硬度復(fù)合二氧化硅研磨分散機(jī)，新型研磨分散機(jī)，高速研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，不銹鋼研磨分散機(jī)

應(yīng)用領(lǐng)域：

1、電子填充材料：功能性覆銅板的填充，鉆頭磨損度極低。

2、橡膠行業(yè)：硅橡膠彈性體、功能新橡膠、塑膠材料。

3、涂料：由于透明度佳，水性涂料、木器涂料的底漆和面漆。

4、油墨：UV油墨等系列中。

5、其他建材工業(yè)。

上海依肯研發(fā)的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來(lái)CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)。

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

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CMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力，對(duì)高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

 2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

，新型研磨分散機(jī)，高速研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，不銹鋼研磨分散機(jī)

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