石墨烯研磨分散機(jī)  原位聚合法，石墨烯高性能熱界面材料研磨分散機(jī)，德國進(jìn)口研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，高速研磨分散機(jī)

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IKN研磨分散機(jī)采用*創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。

作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。 

石墨烯是什么，簡單的說它就是一個(gè)目前世界上zui強(qiáng)、zui堅(jiān)硬、zui薄的物質(zhì)，它比zuan石還堅(jiān)硬，強(qiáng)度比鋼鐵強(qiáng)，電阻率zui小、導(dǎo)熱系數(shù)zui高、表面積*、透光性*。而在現(xiàn)今下，四分之一使用在復(fù)合材料，四分之一使用在儲(chǔ)能方面，還有近四分之一在電子信息方面。

原位聚合法

原位聚合法是將石墨烯與聚合物單體混合，加入引發(fā)劑引發(fā)反應(yīng)，zui后制得復(fù)合材料。Xu等首先制備了氧化石墨烯，通過對(duì)其改性、還原制得高度硫化石墨烯，然后將高度硫化石墨烯與3,4－乙撐二氧噻吩單體、硫酸鐵混合引發(fā)聚合制得石墨烯/聚(3,4－乙撐二氧噻吩)新型復(fù)合材料。Lee等通過熱膨脹還原GO制備了石墨烯，在石墨烯中加入二異氰酸酯、聚己內(nèi)酯二醇，采用原位聚合制備了石墨烯/水性聚氨酯納米復(fù)合材料。Xu等將氧化石墨烯與己內(nèi)酰胺混合，在縮聚的過程中，利用*將氧化石墨烯還原為石墨烯，zui終制備了石墨烯/尼龍6復(fù)合材料。

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原位聚合法可以將石墨烯均勻分散在聚合物基體中，缺點(diǎn)是加入石墨烯(或氧化石墨烯)的聚合物的黏度增大，使得聚合反應(yīng)變得復(fù)雜。

CMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力，對(duì)高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

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CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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