您好, 歡迎來到化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)！ 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
您好, 歡迎來到化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)！ 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
當(dāng)前位置：青島佳鼎分析儀器有限公司>>產(chǎn)品展示>>沉積設(shè)備
半導(dǎo)體工藝技術(shù)一直在不斷縮小規(guī)模并朝著3D結(jié)構(gòu)發(fā)展，這對薄膜沉積提出了挑戰(zhàn)
CanonAnelva二手物理氣相沉積PVD設(shè)備FC7100于2011年開始投入使用，適用于12英寸晶圓
AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，能夠在原子水平上控制薄膜厚度
AL-1通過交替向反應(yīng)室提供有機(jī)金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應(yīng)沉積薄膜，實現(xiàn)了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率
PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
掃一掃訪問手機(jī)商鋪
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
