浸膏通常是指用有機(jī)溶劑浸提不含有滲出物的香料植物組織（如花、葉枝、莖、樹(shù)皮、根、果實(shí)等）中所得的香料制品，成品中不含原用的溶劑和水分。中藥浸膏是浸膏中用途和生產(chǎn)zui廣泛的一種，得到各企業(yè)的親睞。中藥浸膏納米研磨分散機(jī)，GMP醫(yī)藥高剪切納米研磨機(jī)，中藥混懸液研磨分散機(jī)，醫(yī)藥高速濕磨機(jī)，GMP高剪切納米研磨機(jī)，浸膏混懸液研磨分散機(jī)，藥物混懸液研磨分散機(jī)，三級(jí)研磨分散機(jī)，進(jìn)口研磨分散機(jī)

 粉碎操作的種類(lèi)（按細(xì)度分）

①粗粉碎：原料粒度在40～1500mm范圍內(nèi)，成品粒度若5～50mm

②中粉碎：原料粒度在10～100mm 范圍內(nèi) ，成品粒度若 5～10mm

③微粉碎：原料粒度在5～10 mm 范圍內(nèi) ， 成品粒度若100μm以下

④超微粉碎：原料粒度0.5～5mm范圍內(nèi)，成品粒度10～25μm以下。

粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過(guò)能量的輸入使不相溶的兩相或多相達(dá)到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過(guò)程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達(dá)到動(dòng)態(tài)的平衡。

產(chǎn)品效果：
guo內(nèi)粉碎機(jī)，粒徑細(xì)度有限，10微米以下較困難，重復(fù)性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切粉碎機(jī)，可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級(jí)分散乳化粉碎

 中藥干膏粉混懸液在上海依肯實(shí)驗(yàn)的過(guò)程大致如下： 
  
 將中藥浸膏干粉加入到植物油當(dāng)中，然后再加入一些輔料添加劑，*行預(yù)混合，將物料攪拌均勻，然后通過(guò)IKN三級(jí)高剪切研磨分散機(jī)進(jìn)行均質(zhì)乳化，通過(guò)IKN研磨分散機(jī)打一遍后，用手去摸基本沒(méi)有顆粒感，相當(dāng)于傳統(tǒng)膠體磨研磨2天的效果。IKN研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，是傳統(tǒng)設(shè)備的4-5倍，并且定轉(zhuǎn)子間距小，定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)精密，這些都會(huì)決定設(shè)備的研磨均質(zhì)的效果。IKN三級(jí)研磨分散機(jī)工作腔體帶夾套可以降溫和加熱，充分控制好物料的溫度，避免物料變性。
 

IKN研磨分散機(jī)采用的是剪切研磨的方式，作用是對(duì)分子間作用力進(jìn)行一個(gè)解聚的過(guò)程，從而bao證了分子結(jié)構(gòu)的完整性，zui大程度保留了其性能。中藥浸膏納米研磨分散機(jī)，GMP醫(yī)藥高剪切納米研磨機(jī)，中藥混懸液研磨分散機(jī)，醫(yī)藥高速濕磨機(jī)，GMP高剪切納米研磨機(jī)，浸膏混懸液研磨分散機(jī)，藥物混懸液研磨分散機(jī)，三級(jí)研磨分散機(jī)，進(jìn)口研磨分散機(jī)

第1級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽，定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離，在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。這樣的設(shè)計(jì)可以保障物料初始顆粒較大時(shí)，可以順暢進(jìn)入研磨分散機(jī)腔體，通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)的精細(xì)度遞升磨頭，zui終得到微納米級(jí)的物料顆粒。

第2級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子、轉(zhuǎn)子和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

影響研磨效果的因素：

1 磨頭的形式（臥式和立式）

2 磨頭頭的剪切速率

3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（見(jiàn)磨頭結(jié)構(gòu)）

4 物料在磨頭墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間

5 循環(huán)次數(shù)

研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，研磨速率取決于以下因素：

• 磨頭的線速率
• 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 （相對(duì)而言）

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

IKN設(shè)備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

上海依肯IKN高剪切研磨分散機(jī)，采用德國(guó)xian進(jìn)的技術(shù)，設(shè)備轉(zhuǎn)速可高達(dá)14000rpm，是guo產(chǎn)設(shè)備的4-5倍；磨頭結(jié)構(gòu)為三級(jí)錯(cuò)齒，溝槽深度從上到下為由深到淺，溝槽的寬度也是從上到下為由大到小，這樣每級(jí)都會(huì)對(duì)物料更進(jìn)一步的研磨粉碎。而guo產(chǎn)分散機(jī)從上到下的寬度都是*的，所以研磨粉碎的效果很有限。IKN分散機(jī)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并配有機(jī)密冷卻系統(tǒng)，在確保冷卻水的情況下，可24小時(shí)連續(xù)生產(chǎn)。中藥浸膏納米研磨分散機(jī)，，中藥混懸液研磨分散機(jī)，醫(yī)藥高速濕磨機(jī)，GMP高剪切納米研磨機(jī)，浸膏混懸液研磨分散機(jī)，藥物混懸液研磨分散機(jī)，三級(jí)研磨分散機(jī)，進(jìn)口研磨分散機(jī)
 

特點(diǎn)：

1、CMSD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在45DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到更低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

2、CMSD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力，對(duì)高固含量有一定粘稠度物料，CMSD2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMSD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。