高純材料生產(chǎn)和封裝用瑞澤氬氣凈化機
高純材料生產(chǎn)和封裝用瑞澤氬氣凈化機、純化裝置(帶氮通道直讀光譜儀)可與美國熱電,德國斯派克、OBFL、布魯克;瑞士ARL,日本島津,北京納克,英國阿朗,北京瑞利等多家光譜儀公司生產(chǎn)的直讀光譜儀、熒光光譜儀、輝光光譜儀配套使用,以增強分析數(shù)據(jù)的可靠性和穩(wěn)定性,同時可以較大的節(jié)省購買高純氬氣的成本。RZ-YA-4C尤其適用于與帶氮通道的直讀光譜儀配套使用,同時該凈化機也可用作高純材料(如單晶硅、多晶硅、高純金屬)生產(chǎn)的保護氣氛。
凈化原理
該凈化機利用催化劑促使氬氣中的微量氧氣與碳反應(yīng)生成二氧化碳,從而除去氬氣中的雜質(zhì)氧氣,再利用分子篩吸附脫除氬氣中的H2O、CO2等雜質(zhì),再利用合金吸附劑吸附脫除氬氣中剩余的的N2等惰性雜質(zhì),即可得到高純氬氣。
氬氣凈化機的技術(shù)參數(shù)
對原料氬氣要求
一般瓶裝純氬,液氬、控制較好的管道氬氣。
雜質(zhì)要求: O2≤1000PPm, H2O≤1000PPm。
輸出純氣
純度:99.9999%
雜質(zhì)含量:
O2≤0.1PPm,
H2O≤1PPm(即露點≤-76℃),
N2≤0.5PPm
CO+CO2≤0.1PPm,
S、P的氧化物≤0.1PPm。
塵埃粒子數(shù)(≥0.3μm)3-5個/升。
工作壓力:0.4-1.5MPa。
處理氣量:4NM3/h(其余流量需要定制)。
售后服務(wù)
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