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更新時(shí)間：2023-01-04 18:35:11瀏覽次數(shù)：111次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)A residual gas system configured for molecular beam epitaxy applications. Measures residual gases and provides for contamination and leak detection in MBE systems.
HALO 201 MBE 分子束外延殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀用于泄漏探測(cè)、趨勢(shì)分析、真空診斷的過(guò)程監(jiān)測(cè)和殘余氣體的精確分析。
該分子束外延特定分析質(zhì)譜儀由兼容性材料組成，并能在分子束外延環(huán)境中長(zhǎng)期使用。
·鉬銅布線增加MBE環(huán)境下系統(tǒng)的壽命
·抗污染離子源護(hù)罩
·雙法拉第/ channelplate電子倍增器
·質(zhì)量數(shù)范圍： 1～300 amu
·掃描速度： 100amu/s
·最小掃描步階：0.01amu
·靈敏度： 0.1 ppm～1ppm
·穩(wěn)定性： 24h以上，峰高變化小于±0.5%
·最小檢測(cè)分壓：2 x 10-13 mbar
·工作壓力：1 x 10-4 mbar
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