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多陰極磁控濺射鍍膜儀 (confocal sputtering system)

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更新時間：2022-10-14 12:31:59瀏覽次數(shù)：141次

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產(chǎn)品簡介

關(guān)鍵詞：金屬薄膜，氮化鋁、壓電薄膜、AlN、Si3N4薄膜、MEMSTiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體薄膜，氧化物絕緣層型號：MP450S，產(chǎn)地：歐洲，應(yīng)用：沉積硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體膜，氧化物絕緣層等

詳細(xì)介紹

關(guān)鍵詞：金屬薄膜，氮化鋁、壓電薄膜、AlN、Si3N4薄膜、MEMS

TiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體薄膜，氧化物絕緣層

型號：MP450S，產(chǎn)地：歐洲，應(yīng)用：沉積硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體膜，氧化物絕緣層等。

反應(yīng)磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的設(shè)備，可用于制備普通金屬薄膜，氮化鋁(AlN)壓電薄膜，Si3N4薄膜，TiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體薄膜，氧化物絕緣層等，適用于半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和微流體技術(shù)等領(lǐng)域。