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上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司
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更新時(shí)間：2022-10-14 12:30:27瀏覽次數(shù)：86次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)關(guān)鍵詞：單層膜、多層膜、半導(dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號(hào)：MP600S，產(chǎn)地：歐洲，應(yīng)用：制備單層/多層金屬薄膜
關(guān)鍵詞：單層膜、多層膜、半導(dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、
磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射
連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶
型號(hào)：MP600S， 產(chǎn)地：歐洲 ， 應(yīng)用：制備單層/多層金屬薄膜。
多靶反應(yīng)磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的設(shè)備，可用于制備單層/多層金屬薄膜等，適用于半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和微流體技術(shù)等領(lǐng)域。
反應(yīng)腔體：內(nèi)徑為600mm，高度300mm，采用電化學(xué)拋光不銹鋼
真空系統(tǒng)：采用1500 l/s低溫泵+15m3/h 干泵
采用薄膜真空計(jì)、潘寧/皮拉尼真空計(jì)
襯底尺寸：可加載4英寸襯底
采用電阻加熱可達(dá)500℃
采用K型熱電偶測溫
磁控陰極：四個(gè)6英寸磁控陰極，
與樣品臺(tái)的距離手動(dòng)可調(diào)（7-15cm）
每個(gè)陰極配備一個(gè) 圓柱形擋板，防止 污染
每個(gè)陰極配備一個(gè)電氣閥
每個(gè)陰極都可以是直流或射頻模式
陰極電源：一個(gè)300W 13.56MHz射頻電源（可以升級(jí)到2kW）
射頻轉(zhuǎn)換開關(guān)可用于濺射或襯底清洗
一個(gè)2kW 直流電源
偏置電壓：10V-300V可調(diào)
反應(yīng)氣路：分別為Ar、N2、O2氣路，每個(gè)氣路配備MFC
Load Lock：采用Al合金腔體，手動(dòng)樣品傳動(dòng)臂。
采用主腔體干泵抽氣
控制系統(tǒng)：全自動(dòng)控制，半自動(dòng)和手動(dòng)模式可用
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