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直流磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

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關(guān)鍵詞：鍍膜、金屬膜、Al,Ti,Cr,Ni,Cu,Au,Nb,W,Pd,Pt,Mo可在導(dǎo)體或絕緣體上濺射任何薄膜氣路：Ar氣路配搭MFC陰極：3個(gè)4英寸直流磁控管

詳細(xì)介紹

關(guān)鍵詞：鍍膜、金屬膜、Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo

可在導(dǎo)體或絕緣體上濺射任何薄膜

氣路：Ar氣路配搭MFC

陰極：3個(gè)4英寸直流磁控管，一個(gè)加強(qiáng)磁控管用于Ni，一個(gè)6英寸磁控源

靶材： Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo

直流電源：200mA-1A（1千瓦功率）

襯底偏置：等離子刻蝕，20-250W（RF ）

樣品臺(tái)：可接納4個(gè)4英寸襯底，襯底可旋轉(zhuǎn)

真空泵：前級(jí)泵+低溫泵

全自動(dòng)、半自動(dòng)、手動(dòng)模式

支持遠(yuǎn)程維護(hù)和操作

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