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微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-MPCVD（科研/小批量生產(chǎn)型）

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資料下載：PLASSYS約瑟夫森結(jié)制備系列系統(tǒng)(磁控濺射,電子束蒸鍍)

詳細(xì)介紹

資料下載：PLASSYS 約瑟夫森結(jié)制備系列系統(tǒng)(磁控濺射,電子束蒸鍍).pdf[786KB]

資料下載：微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、磁控濺射、電子束蒸鍍、反應(yīng)離子束刻蝕.pdf[903KB]

關(guān)鍵詞: MPCVD, MWCVD, MPACVD, MPECVD, CVD金剛石、微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

CVD金剛石合成設(shè)備、納米晶金剛石、單晶金剛石、single crystal diamond、SCD、

Microwave Plasma Assited/Enhanced Chemical Vapor Deposition System

型號(hào)：SSDR150，產(chǎn)地：歐洲

腔體：鋁合金腔體，內(nèi)含石英管反應(yīng)室；可以長(zhǎng)時(shí)間滿功率運(yùn)行。

微波發(fā)生源：頻率為2.45GHz、功率為6KW，LCD數(shù)顯微波入射和反射功率。

4條氣路：分別為氫氣、甲烷、氧氣、氮?dú)?/div>

可以增加額外3條氣路、可以選擇氣體（B、N、P）或液體（P）摻雜。

樣品臺(tái)：水冷，可以容納2英寸襯底；

測(cè)溫系統(tǒng)：采用雙色高溫計(jì)；

真空系統(tǒng)：干泵+分子泵。

可以選配：光譜儀，樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)功能，微波發(fā)生源脈沖模式，3-4英寸樣品臺(tái)

控制系統(tǒng)：配套有全自動(dòng)控制系統(tǒng)、工業(yè)電腦、必要的數(shù)據(jù)接口及操作軟件；

支持多級(jí)用戶權(quán)限設(shè)置和多用戶管理，系統(tǒng)支持設(shè)備的遠(yuǎn)程操作和維護(hù)；

系統(tǒng)含故障報(bào)警及定位功能，能及時(shí)提示相應(yīng)故障部件。

支持半自動(dòng)和手動(dòng)操作模式。

設(shè)備應(yīng)用：具備多種用途，以滿足用戶科研需要；

適合生長(zhǎng)雜質(zhì)濃度低于1ppb的超高純度單晶，且有大量專業(yè)科技文獻(xiàn)佐證；

適合一次性生長(zhǎng)厚單晶以及多種子生長(zhǎng)；

適合金剛石摻雜（硼、磷等）研究及光學(xué)級(jí)多晶窗口生長(zhǎng)。

工藝培訓(xùn)：原廠工程師現(xiàn)場(chǎng)演示金剛石生長(zhǎng)，包括種子選擇、種子預(yù)處理、

種子的固定及生長(zhǎng)工藝等培訓(xùn)，并現(xiàn)場(chǎng)演示單晶生長(zhǎng)；

原廠需具有高水平和豐富的金剛石生長(zhǎng)工藝經(jīng)驗(yàn)。

若有興趣，可隨時(shí)聯(lián)系咨詢我們！

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