真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-2L-S

名稱（Name）

真空式等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-VPO-2L-S

控制系統(tǒng)（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 3kw

中頻電源功率（RF Power）

1000W/40KHz

容量（Volume ）

10L(Option)

層數(shù)（Electrode of plies ）

2(Option)

腔體規(guī)格（Area）

220(W)*230(D)*230(H)

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2

產(chǎn)品概述
設(shè)備參數(shù)
產(chǎn)品特點
超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，精準(zhǔn)的控制設(shè)備運行；
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
 
應(yīng)用范圍
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
 

等離子清洗機的清洗分類及是如何做到表面高效清洗的

      在PLC還沒有出現(xiàn)之前，所有的等離子清洗機的控制系統(tǒng)都是以繼電器控制為主。繼電器控制一般包括按鈕和觸點控制兩種控制方式。按鈕控制就是指用手動控制器控制用電設(shè)備的電路;而觸點控制則是使用繼電器做邏輯控制，其控制對象既有用電設(shè)備電路，也有繼電器的自身線圈。 
      繼電器控制是利用電器元件的機械觸點串并聯(lián)來組合成邏輯控制電路。實驗型真空等離子清洗機就是采用按鈕操作方式控制的?？刂撇糠值闹饕娖鞑考校赫婵毡谩F電源、真空計、計時器、浮子流量計、綠色電源指示燈、帶燈的蜂鳴器、功率調(diào)節(jié)器、放空按鈕(帶自鎖)、氣體一按鈕(帶自鎖)、氣體二按鈕(帶自鎖)、高頻電源按鈕(帶自鎖)、真空泵按鈕(帶自鎖)、總電源旋鈕開關(guān)。鈕(帶自鎖)、真空泵按鈕(帶自鎖)、總電源旋鈕開關(guān)。
      因按鈕操作的真空等離子清洗機的組成及操作模式，也決定了其有些缺點，因觸點間用導(dǎo)線連接，容易出現(xiàn)故障，可靠性較低，維護難度大，繼電器類元件都是分立元件、體積大、不便實現(xiàn)復(fù)雜的邏輯控制;不過，雖有缺點，但其優(yōu)點也是不容忽視的，就是價格比較實惠、控制對象一一對應(yīng)、操作直觀靈活。     
等離子清洗機的高效表面清洗
等離子預(yù)處理和清洗作用為塑料、鋁材甚致玻璃的后續(xù)涂裝作業(yè)創(chuàng)造了理想的表面條件。
由于等離子清洗是一種”干式”的清洗工藝，處理完后材料能夠立即進入下一步的加工過程，因而，等離子清洗是一種穩(wěn)定而又高效的工藝過程。由于等離子體所具有的高能量，材料表面的化學(xué)物質(zhì)或有機污染物能夠被分解，所有可能干擾附著的雜質(zhì)被有效去除，從而使材料表面達到后續(xù)涂裝工藝所要求的很好的條件。使用等離子技術(shù)按照工藝的要求進行表面清洗，對表面無機械損傷，無需化學(xué)溶劑，*的綠色環(huán)保工藝，脫模劑、添加劑、增塑劑或者其它由碳?xì)浠衔飿?gòu)成的表面污染都能夠被去除。
通過等離子進行的表面清洗能夠除去緊密附著在塑料表面的很細(xì)小的灰塵顆粒。通過一系列的反應(yīng)和相互作用，等離子體能夠?qū)⑦@些灰塵顆粒從物體表面*除去。這樣可以大大降低高品質(zhì)要求的涂裝作業(yè)的廢品率，比如汽車工業(yè)里的涂裝作業(yè)。通過在微觀層面上的一系列物理化學(xué)作用，等離子的表面清洗作用能夠獲得精細(xì)的高品質(zhì)表面。
等離子清洗機的清洗分類
1.反應(yīng)類型分類
等離子體與固體表面發(fā)生反應(yīng)可以分為物理反應(yīng)（離子轟擊）和化學(xué)反應(yīng)。物理反應(yīng)機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走；化學(xué)反應(yīng)機制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。
以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性，腐蝕作用各向異性；缺點就是對表面產(chǎn)生了很大的損害，會產(chǎn)生很大的熱效應(yīng)，對被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差，腐蝕速度較低。以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗的優(yōu)點是清洗速度較高、選擇性好、對清除有機污染物比較有效，缺點是會在表面產(chǎn)生氧化物。和物理反應(yīng)相比較，化學(xué)反應(yīng)的缺點不易克服。并且兩種反應(yīng)機制對表面微觀形貌造成的影響有顯著不同，物理反應(yīng)能夠使表面在分子級范圍內(nèi)變得更加“粗糙”，從而改變表面的粘接特性。還有一種等離子體清洗是表面反應(yīng)機制中物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都起重要作用，即反應(yīng)離子腐蝕或反應(yīng)離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促進，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應(yīng)劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應(yīng)；其效果是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。
典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗。氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng)，而是通過離子轟擊使表面清潔。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基很活潑，容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。
2.激發(fā)頻率分類
等離子態(tài)的密度和激發(fā)頻率有如下關(guān)系：
nc=1.2425×108v2
其中nc為等離子態(tài)密度（cm-3），v為激發(fā)頻率（Hz）。
常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。
不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣。超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機制不同。超聲等離子體發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng)，射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響很大，因而實際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。