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　　近年來(lái)，我們看到人工智能(AI)和機(jī)器學(xué)習(xí)(ML)的應(yīng)用擴(kuò)展到更廣泛的計(jì)算機(jī)和移動(dòng)應(yīng)用領(lǐng)域?，F(xiàn)在，就像低成本圖形處理單元(GPU)的普及推動(dòng)了深度學(xué)習(xí)革命一樣，硬件設(shè)計(jì)被預(yù)測(cè)為下一個(gè)重大發(fā)展提供基礎(chǔ)。

　　隨著大型企業(yè)，初創(chuàng)企業(yè)和中小型企業(yè)等公司爭(zhēng)相建立支持AI生態(tài)系統(tǒng)的基本AI加速器技術(shù)。2018年，AI芯片市場(chǎng)整體價(jià)值66.4億美元，預(yù)計(jì)未來(lái)幾年將大幅增長(zhǎng)，到2025年將達(dá)到911.9億美元，復(fù)合年增長(zhǎng)率為45.2%。因此，可以理解的是，許多公司都在致力于開(kāi)發(fā)AI芯片。

　　集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

　　萊特萊德芯片超純水設(shè)備系統(tǒng)根據(jù)半導(dǎo)體芯片用水要求，采用當(dāng)今*的全自動(dòng)電去離子超純水處理技術(shù)，前置預(yù)處理配套使用加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質(zhì)，進(jìn)一步提升水質(zhì)，超純水水質(zhì)*符合芯片生產(chǎn)用水要求。

　　芯片超純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì)數(shù)不勝數(shù)，其能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，不會(huì)因?yàn)闃?shù)脂再生而停止運(yùn)行，設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相對(duì)靠緊，所以其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，超純水設(shè)備在出廠前均需進(jìn)行裝置調(diào)試，所以設(shè)備故障幾率較小，日常保養(yǎng)、維修等操作都非常簡(jiǎn)單。芯片超純水設(shè)備內(nèi)部還安置有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，再次從根本上行保障了水處理設(shè)備的出水水質(zhì)，與此同時(shí)，超純水制取設(shè)備廢水產(chǎn)出量少，不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染，有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益，其發(fā)展前景廣闊。

　　芯片超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。