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東莞市匯成真空科技有限公司
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更新時間：2018-05-18 15:24:00瀏覽次數(shù)：342次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工機械設備網(wǎng)本公司主營產(chǎn)品：真空鍍膜設備;蒸發(fā)磁控濺射鍍膜設備;多弧離子鍍膜設備;環(huán)保電鍍設備;真空表面處理設備;PVD離子鍍膜設備;中頻磁控多功能真空鍍膜設備;金屬電鍍設備;蒸發(fā)鍍膜設備;塑料電鍍設備。
PVD離子鍍膜設備替代傳統(tǒng)氮化鈦（TiN）離子鍍技術的新一代耐磨蝕鍍層技術裝備。它采用低壓離子槍輔助加強的非平衡磁控濺射技術，能鍍制氮化鋁鈦（TiAlN），碳氮化鈦（TiCN），氮化鉻（CrN），氮化鈦（TiN），氮化鋯（ZrN）及類金剛石等超硬鍍層。通過采用新的復合鍍層原理和精確的工件轉(zhuǎn)動結(jié)構，能保證同爐鍍制出上述膜系的3種成分的多層（納米級）復合鍍層。研制成功的新的工模具鍍層技術，可按工模具實際使用條件進行綜合膜系設計。多成分復合鍍層比單一成份鍍層具有更好的耐磨耐蝕性能，其壽命和加工效率均可比單一鍍層高。
PVD離子鍍膜機技術性能：
鍍膜室：殼體為不銹鋼，水冷。
內(nèi)腔尺寸：Φ750×H 650 mm.
真空系統(tǒng)：分子泵F—250，1500 L／Sec
機械泵2X—30，30 L／Sec
極限真空度：≤7×10-4Pa
恢復真空：大氣——7×10-3Pa≤30min
工件轉(zhuǎn)動：臥式，公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)4～10轉(zhuǎn)／min
工件架尺寸：Φ500×350 mm
可裝工件數(shù)量：70×14×10 mm工件50件以上。
非平衡磁控靶：2個
靶電源：2個，0～600V／15A.
低壓離子槍：1個，0～60V／180A.
低壓離子槍電源：1個
偏壓電源：1個，0～600V／20A.
等離子清洗：由低壓離子槍進行清洗。
工件加熱：由低壓離子槍加熱，或附加加熱器進行加熱。
由熱電偶測量溫度。
可鍍膜的成份：TiAlN，TiCN，CrN，ZrN，TiN，類金剛石等。
充氣系統(tǒng)：由3路質(zhì)量流量控制器（MFC）分別對1路Ar，1路N2，1路C2H2進行控制。
加工控制：手動。［另可根據(jù)需要采用計算機和PLC作半自動或自動控制。］
供電電源：3N-220／380V±10％，50HZ，保護地線，耗電≈30KW.
冷卻水：壓力≥2Kg／cm2，耗水量約5T／hr.
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