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東莞市匯成真空科技有限公司
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聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)本公司主營(yíng)產(chǎn)品：真空鍍膜設(shè)備;蒸發(fā)磁控濺射鍍膜設(shè)備;多弧離子鍍膜設(shè)備;環(huán)保電鍍?cè)O(shè)備;真空表面處理設(shè)備;PVD離子鍍膜設(shè)備;中頻磁控多功能真空鍍膜設(shè)備;金屬電鍍?cè)O(shè)備;蒸發(fā)鍍膜設(shè)備;塑料電鍍?cè)O(shè)備。
該系列設(shè)備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結(jié)合線性離化源及脈沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細(xì)化。膜層各項(xiàng)性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜，多層復(fù)合膜等。經(jīng)公司技術(shù)人員多年專注研發(fā)，通過(guò)*的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，開(kāi)發(fā)出整套PROPOWER系列計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制系統(tǒng)，使鍍膜膜層附著力致密度、從復(fù)度*性好等特點(diǎn)，解決了人工手動(dòng)操作復(fù)雜性、膜層顏色不*等問(wèn)題。廣泛適用于手表、手機(jī)殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbu、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金剛石膜（DLC）。
1. 磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，把陰極表面磁場(chǎng)擴(kuò)展到接近工件表面，提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細(xì)膩又增強(qiáng)了表面光澤度。
2. 電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，在優(yōu)化陰極及磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)鍍膜時(shí)可在 30A 電流下工作，鍍膜膜層和基底界面產(chǎn)生原子擴(kuò)散，又具有離子束輔助沉積的特點(diǎn)。
參數(shù)說(shuō)明：
| 型號(hào) | JTL-800 | JTL-1000 | JTL-1250 |
| 真空室尺寸 | Φ800Χ1000mm | Φ1000Χ1000mm | Φ1250Χ1100mm |
| 鍍膜方式及主要配置 | 六個(gè)多弧靶 +一套圓柱靶+一套平面矩形磁控濺射靶 | 八個(gè)多弧靶 +一對(duì)孿生（中頻）磁控濺射靶+一套平面矩形磁控濺射靶 | 十二個(gè)多弧靶 +二套平面矩形磁控濺射靶+一對(duì)孿生（中頻）磁控濺射靶 |
| 電源 | 電弧電源、直流磁控電源、中頻磁控電源、燈絲電源、脈沖電源、線性離化源 | ||
| 工藝氣體控制 | 質(zhì)量流量計(jì) +電磁陶瓷閥 | ||
| 真空室結(jié)構(gòu) | 立式側(cè)（單）開(kāi)門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷 | ||
| 真空系統(tǒng)組成 | 分子泵 +羅茨泵+機(jī)械泵（5.0Χ10-5 pa），擴(kuò)散泵+羅茨泵+機(jī)械泵（ 5.0Χ10-4pa） | ||
| 工件烘烤溫度 | 常溫到 500度可調(diào)可控（PID控溫），輻射加熱 | ||
| 工件運(yùn)動(dòng)方式 | 公自轉(zhuǎn)變頻調(diào)速， 0-20轉(zhuǎn)/分 | ||
| 測(cè)量方式 | 數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)：測(cè)量范圍從大氣至 1.0Χ10-5pa） | ||
| 控制方式 | 手動(dòng) /自動(dòng)/PC/PLC+HMI/PC四種控制方式可選 | ||
| 備注 | 以上設(shè)備可按客戶實(shí)際產(chǎn)品及特殊工藝要求設(shè)計(jì)訂做 | ||
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