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科研實(shí)驗(yàn)室小型高溫樣品鍍膜設(shè)備

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科研實(shí)驗(yàn)室小型高溫樣品鍍膜設(shè)備，觸摸屏控制，可調(diào)節(jié)功率和蒸鍍時(shí)間，配有樣品擋板能精確控制鍍膜時(shí)間，保護(hù)樣品

詳細(xì)介紹

科研實(shí)驗(yàn)室小型高溫樣品鍍膜設(shè)備，小型蒸鍍儀鄭州科探KT-Z1650CVD，臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。
通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

原樣品沒有鍍膜 115A 100秒機(jī)械泵

115A 100秒分子泵抽12分鐘 115A 120秒分子泵抽20分鐘

真空度越高越不易氧化越接近金屬本色

科研實(shí)驗(yàn)室小型高溫樣品鍍膜設(shè)備?KT-Z1650CVD

控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
加熱方式	數(shù)字式功率調(diào)整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離	70-140mm
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)	≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型	鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟碳繩
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口
可選配擴(kuò)展	機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數(shù)顯真空計(jì)（測(cè)量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）