KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

詳細(xì)介紹

KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個系列幾十款產(chǎn)品，產(chǎn)品囊括實驗電爐 CVD供氣系統(tǒng) 等離子清洗機(jī) 小型離子濺射儀 磁控濺射儀 石英管真空封口半導(dǎo)體檢測等。主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究，廣銷于各大院校，及材料研究所。

公司與國內(nèi)高校，科研院所有多層次的合作關(guān)系，建有開放實驗室，相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念，依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力，科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作，科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。

控制方式	7寸人機(jī)界面手動自動模式切換控制
濺射電源	40KHz濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
大功率	≤1000W
大輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
極限真空	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺	可旋轉(zhuǎn)φ62 （大可安裝φ50基底）
樣品臺轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測量	皮拉尼真空計（已安裝測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口