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單靶磁控濺射儀

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更新時(shí)間：2025-01-07 16:21:48瀏覽次數(shù)：27次

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產(chǎn)品簡介

此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡單方便，設(shè)備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空，在 20Pa 真空保護(hù)。同時(shí)，配有進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

詳細(xì)介紹

KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡單方便，設(shè)備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空，在 20Pa 真空保護(hù)。同時(shí)，配有進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

單靶磁控濺射儀 主要特點(diǎn)：

可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛
體積小，操作簡便
真空腔室、真空泵組整機(jī)模塊化設(shè)計(jì) ，控制電源為分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整購買需求。
可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍，也可多個(gè)電源單一控制靶槍

磁控濺射頭：