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桌面式小型濺射儀

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產(chǎn)品簡介

桌面式小型濺射儀KT-Z1650PVD磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。

詳細(xì)介紹

桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD

傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是：在高真空的條件下，入射離子（Ar⁺）在電場的作用下轟擊靶材，使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面，沉積在基片表面形成薄膜。但是，電子會受到電場和磁場的作用，產(chǎn)生漂移，因而導(dǎo)致傳濺射效率低，電子轟擊路徑短也會導(dǎo)致基片溫度升高，為了提高濺射效率，在靶下方安裝強(qiáng)磁鐵，和周圈分別為N、S極。電子由于洛倫茲力的作用被束縛在靶材周圍，并不斷做圓周運(yùn)動，產(chǎn)生更多的Ar⁺轟擊靶材，大幅提高濺射效率，如圖所示，采用強(qiáng)磁鐵控制的濺射稱為磁控濺射。

桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；

控制方式	7寸人機(jī)界面手動自動模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測量	皮拉尼真空計(jì)（已安裝測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口